靶材，不可忽视的关键耗材

靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的工作原理：溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。

靶材对纯度要求高，其中薄膜太阳能电池与平板显示器要求纯度为4N，集成电路芯片要求纯度为6N。金属提纯的主要方式有化学提纯与物理提纯，化学提纯主要分为湿法提纯与火法提纯，通过电解、热分解等方式析出金属。物理提纯则是通过蒸发结晶、电迁移、真空熔融法等步骤提纯得到主金属。

铜、铝、钼、ITO是应用最广的靶材。高纯溅射靶材集中应用于平板显示、信息存储、太阳能电池、芯片四个领域，合计占比达94%。芯片认证对靶材要求最为严格。芯片靶材是制造集成电路的关键原材料，也是技术要求最高的靶材。从技术要求来看，半导体靶材要求超高纯度金属、高精密尺寸、高集成度等，往往选取高纯铜、高纯铝、高纯钛、高纯钽、铜锰合金等，集成电路芯片通常要求铝靶纯度在5N5以上；平板显示靶材的原材料有高纯度铝、铜、钼等，还有掺锡氧化铟，主要用于高清电视、笔记本电脑等，它要求材料高纯度、面积大、均匀性好、平板显示靶材通常要求靶材纯度在5N以上；信息存储靶材具备高存储密度、高传输速度等。

靶材是半导体、显示面板等的关键核心材料，2019年全球靶材市场约在160亿美元左右，国内总需求占比超30%。但是国内溅射靶材主要集中中低端产品，而高端靶材产品则从美日韩进口，国内几家头部企业的营收合计在30亿元左右，占比还相对较少。伴随全球分工及产业链转移，本土企业正处在加速替代过程中。未来随着国内企业市场份额的扩大，靶材进口替代的空间十分可观。

美日企业垄断占据全球主要市场

靶材应用性较强，溅射靶材行业在全球范围内呈现明显的区域集聚特征，国外知名靶材公司在靶材研发生产方面已有几十年的积淀，在靶材市场占据绝对的优势。目前全球溅射靶材市场主要有四家企业：JX日矿金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯，合计垄断了全球80%的市场份额。特别是用于集成电路的高端靶材，四家企业约占90%的市场份额，其中JX日矿金属规模最大。

政策加码，国产替代加速

近年来国家正在大力推进平板显示行业全产业链的国产化进程，其中作为上游原材料，靶材的国产化进程也在迅速加速。国家“十三五”明确提出，到2020年重大关键材料自给率达到70%以上，初步实现中国从材料大国向材料强国的战略性转变。2015年11月多部委联合发布《关于调整集成电路生产企业进口自用生产性原料、消耗品、免税商品清单的通知》，通知规定，2019年起从美国、日本进口靶材需要缴纳5-8%关税，这将有助于促进国内下游厂商优选选择国产靶材产品。以江丰电子、阿石创、有研新材、隆华科技为首的国产靶材供应商在技术创新、认证壁垒等环节持续突破，已经成为诸多半导体、平板显示、太阳能电池国内外龙头企业的供应商，正在改变我国靶材市场进口依赖的状况。